Produktdetails:
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Name: | Leistung von unübertroffenen Halbleiterprozessen Flüssigkeitsheizung Chemische Halbleiterheizung | Typ der Temperaturregelung: | Typ PT100 oder J |
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Anwendung: | Halbleiterindustrie, Solarindustrie, MEM-Industrie und andere technologische Industriezweige | Rahmenmaterial: | PTFE |
Innenmaterial: | PFA | Kabellänge: | 2 Meter/3 Meter/andere |
Hervorheben: | Halbleiterprozessheizung,Inline chemische Flüssigkeitsheizung,Chemische Heizgeräte aus PTFE-Rahmen |
Schnellere Aufheizung:Einzelheizkammergrößen bis zu 18 kW.
Schnelle Installation:angepasste Sanitärverbindungen
Lange Lebensdauer der Heizung für geringere Betriebskosten (COO):
Patentiertes Heizgasabwaschsystem entfernt kontinuierlich chemische Permeation und sorgt für eine lange Lebensdauer
Lange Lebensdauer der Heizung und sauberer Betrieb:Das patentierte Heizgasabschaffungssystem entfernt chemische Permeation kontinuierlich und sorgt für eine außergewöhnlich lange Lebensdauer.Dieses System schützt auch vor einer möglichen ionischen Kontamination der chemischen.
Robuste Konstruktion:Eine dicke Wandkammer sorgt für eine lange Lebensdauer bei harsten Anwendungen bei hohen Temperaturen.
Außergewöhnlich saubere Leistung:Eine dicke Fluorpolymer-Hülle verringert die Durchdringung, die Überwachung der Elemente reduziert die potentiellen ionischen Kontaminationen, die Montage und Prüfung in Reinräumen sorgen für höchste Produktionsstandards.
Ausgezeichnete chemische Verträglichkeit:Alle mit Fluorpolymeren befeuchten Teile, die mit nahezu jeder chemischen Verbindung kompatibel sind
Ausgezeichnete Temperaturbeständigkeit:Durch eine geringe Wattdichte kann die Prozesstemperatur genau gesteuert werden.
Zu den Anwendungen gehören:
SC1: Ammoniumhydroxid (NH4OH) und Wasserstoffperoxid (H2O2)
SC2: Chlorwasserstoffsäure (HCl) und Wasserstoffperoxid Buffered Oxid Etch (BOE) Verfahren: Fluorwasserstoffsäure (HF) und Ammoniumfluorid (NH4F)
Nitrid-Etsch/Band: Phosphorsäure (H3PO4) Verschiedene Säuren wie:
Salzwasserstoff
Fluorwasser (HF)
Essig (C2H4O2)
Stickstoff (HNO3)
Schwefel (H2SO4)
Schwefelsäure und Wasserstoffperoxid
Schwefelsäure und Ozon (O3)
Fluorwassersäure und Glykol (C2H6O2)
Kaliumhydroxid (KOH)
Natriumhydroxid (NaOH)
Elektrolöses Nickel Elektrolöses Kupfer Elektrolöses Gold Deionisiertes Wasser
Einige Lösungsmittel (Fabrik für Beratung)
Dienstleistung:
• chemische Heizung mit flüssigem Fluorpolymer
Oberflächen für praktisch alle Anwendungen in der nassen Chemie
Höchstbetriebsdruck:
• 100 PSIG (7 Bar) bei 25oC
• 43 PSIG (. Bar) bei 180oC
Größen der Heizungen: 1.000 Watt bis zu 18.000 Watt
Verfügbare Heizspannungen:
200 bis 600 Volt, ein- oder dreiphasig (12 kW und
größere erfordert drei Phasen).
Wattdichte: 10 Watt pro Quadratzoll (1,5 W/cm2)
Verfügbare Fluidverbindungen:
• 1⁄6 (6 mm) bis 1⁄25 (25 mm) aufgeblasen
• 1⁄2 ′′ (12 mm) bis 1 ′′ (25 mm) Super 300 Typ Säule®•
Andere Verbindungen verfügbar, Fabrik konsultieren
Zertifizierungen Dritter: CE, UL, Semi S2 und S3
Elemente reinigen:
• Kleine Menge an sauberer trockener Luft (CDA) oder N2-Gasströme
zwischen dem metallischen Erdungselement und der PTFE-Hülle
Anwendungen
Wasserprozesse für Halbleiter
Sterilisation/Reinigung
Solar-/Photovoltaik-Waferreinigung
Elektrochemische Ablagerung ist ein kostengünstiger Prozess, bei dem Oxidation und Reduktion verwendet werden, um Metall mit Elektrizität an eine Oberfläche zu kleben.Überschüssige Produkte liefern eine volle Leistung der Stromversorgung, hohe Effizienz, Hochgeschwindigkeits-Gleichstromleistung, Konnektivität, Zuverlässigkeit und ETL-Zertifizierung.
Elektrochemische Ablagerung Produkte (2) |
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