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PTFE-Schweiß-Nass-Etschen-Prozess-Tanks mit hoher Temperatur für Halbleiter

Name: PTFE-Schweiß-Nass-Etschen-Prozess-Tanks mit hoher Temperatur für Halbleiter
Brand: Surplus Industrial Technology Limited
SKU: PTFE-Tank 01
Availability: InStock

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PTFE-Schweiß-Nass-Etschen-Prozess-Tanks mit hoher Temperatur für Halbleiter

PTFE Welded Wet Etching Process Tanks High Temperature For Semiconductor

Großes Bild : PTFE-Schweiß-Nass-Etschen-Prozess-Tanks mit hoher Temperatur für Halbleiter

Produktdetails:

Herkunftsort:	China
Markenname:	Surplus
Zertifizierung:	ISO9001,CE
Modellnummer:	PTFE-Tank 01

Zahlung und Versand AGB:

Min Bestellmenge:	1 Stück
Preis:	verhandelbar
Verpackung Informationen:	Holzetui- oder Kartonkasten
Lieferzeit:	10-15 Arbeitstage
Zahlungsbedingungen:	T/T,
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:	50 PC/Monat

Kontakt

PTFE-Schweiß-Nass-Etschen-Prozess-Tanks mit hoher Temperatur für Halbleiter

Beschreibung

Name:

PTFE-Schweiß-Nass-Ätzer-Hochtemperatur-Prozesstanks für den Nassprozess von Halbleitern

Material:

PTFE

Herstellungsprozess:

mit einem Durchmesser von mehr als 50 cm3

Abmessung:

Übereinstimmung der Anforderung des Kunden

Hervorheben:

PTFE-Tank für das Prozessverfahren der nassen Ätzung

Hochtemperatur-Etsprozessbehälter

PTFE-geschweißte Behälter

PTFE-Schweiß-Nass-Ätzen-Hochtemperatur-Prozesstanks für Halbleiter-Nassprozess

Übersicht

Surplus designed process and rinse tanks are constructed from a single sheet of application specific plastic material that is CNC machined and then folded into the form of your tank using the “ORIGAMI” method. Schweißecken können Partikel-/Verunreinigungsfallen erzeugen und können aufgrund der Verarbeitung, des thermischen Kreislaufs und/oder der längeren chemischen Exposition durchsickern.Die ORIGAMI-Methode minimiert das Schweißen und sorgt für glatte, nahtlose, abgerundete Innenecken.

Der ORIGAMI-Ansatz bei der Konstruktion und Herstellung in Kombination mit über 40 Jahren Erfahrung im nassen Verfahren bietet optimale Prozess- und Spülergebnisse zu möglichst niedrigen Kosten.

PTFE-Tanks sind in Konfigurationen für alle Substrat- und Kassettengrößen in Standard- oder kundenspezifischen Designs erhältlich.Überprüfen Sie Ihren Tankantrag und Ihre Anforderungen mit unserem Vertriebsmitarbeiter, um rechtzeitig ein kostengünstiges Angebot zu erhaltenAuf Anfrage sind Verkaufszeichnungen für Standardtanks erhältlich.

PTFE-Schweiß-Nass-Ätzen-Hochtemperatur-Prozesstanks für Halbleiter-NassprozessEigenschaften:

Das Produkt wird von unseren erfahrenen Schweißern hergestellt.
Die maximale Größe, die wir lieferten, beträgt 2,0 m × 2,5 m × 2,0 m.

PTFE-Schweiß-Nass-Ätzen-Hochtemperatur-Prozesstanks für Halbleiter-Nassprozess Hauptanwendungen:

• Waschbehälter (Siliziumwafer usw.)
• Waschbehälter zur Temperaturregelung
• Aufbewahrung von Chemikalien

PTFE geschweißte Prozessbehälter für die Hochtemperatur-Nass-Ätzung für Halbleiter

• Die Form ist nicht erforderlich und für kleinere Partien sparsam.
• Freie Entwürfe sind für verschiedene Bedürfnisse möglich.

Spezifikationen

Modell	PTFE-Prozessbehälter
Tankmaterial	PTFE (Stärke) je nach Tankgröße)
Bauwesen	Origami mit gefalteten Ecken, Schweißnähte mit Spülung
Verbindungen	PFA aufgeblasen Stängel Standard
Max. Betriebszeit Temperatur	100 bis 200°C*
Optionale Kühlspulen	PFA-Rohr, gewölbt
Begrenzte Garantie	Ein Jahr

Größe und Tag:

PTFE-Tanker,

Säurebeschlauchbehälter,

Teflonbehälter

Kontaktdaten

Surplus Industrial Technology Limited

Ansprechpartner: Doris Lu

Telefon: 13560811662

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Material: PTFE